• 有機ナノ薄膜処理技術 NANOS ナノス

    当社独自技術による有機ナノ薄膜処理「NANOS(ナノス)」は特殊なフッ素系高分子をスプレー処理・真空蒸着によってステンレス(SUS)やニッケル(Ni)などの金属やガラス基材に対して、撥水性・撥油性・防汚性(耐指紋性)・滑り性(動摩擦係数)向上などの機能膜を付与することが出来る技術です。

    特徴

    優れた撥水性・撥油性

     (純水:110°以上・n-ヘキサデカン:68°以上)

    薄い膜厚をコントロール可能

     ・スプレー処理:5~10nm(任意に1nm刻みでコントロール)

     ・真空蒸着:5~45nm(任意に5nm刻みでコントロール)

    光学特性への影響が少ない(無色・透明)

    低温プロセス

     ・プロセス全体の最高温度が80℃と基材への熱影響が小さい

    撥水・撥油・防汚性

    撥水・
    撥油性
    オリーブオイルの油滴による比較 油性マジックペンによる比較 ※写真の素材はPMMA
    処理あり 処理なし 処理あり 処理なし




    コーティング
    なし
    NANOS
    処理
    2往復 4往復 6往復 8往復

    基板:ソーダライムガラス 拭き取り材:ティッシュペーパー「エリエール」

    採用実績と効果

      採用実績 目的・効果
    スプレー法 スキャナ用コンタクトガラス 汚れ付着防止、メンテナンスの向上
    光学部品(レンズ、カバーガラスなど) 撥水性付与、汚れ(耐指紋)付着防止
    タッチパネル 汚れ(耐指紋)付着防止
    はんだ印刷用メタルマスク 印刷性向上、メンテナンスの軽減
    真空蒸着法 インクジェットヘッド 印刷性向上
    光学部品用金型 離型性向上
    スタンパ金型 離型性向上、タクトタイムの短縮
    ナノインプリント用金型 離型性向上、微細形状への追従性が高い
    転写プロセス用治具(凹版など) 転写性向上(離型剤レス)
    フォトマスク レジストの付着防止
    AFM、STM用プローブ 異物の付着防止

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